Header
 
Login
 

Privatsphäre-Einstellungen

Wir verwenden Cookies auf unserer Website. Einige von ihnen sind unerlässlich, während andere uns helfen, diese Website und Ihre Erfahrungen zu verbessern.

Notwendig Statistik Marketing
Auswahl bestätigen
Weitere Einstellungen

Hier finden Sie eine Übersicht aller verwendeten Cookies. Sie können ganzen Kategorien Ihre Zustimmung geben oder weitere Informationen anzeigen und bestimmte Cookies auswählen.

Alle auswählen
Auswahl bestätigen
Notwendig Cookies
Wesentliche Cookies ermöglichen grundlegende Funktionen und sind für die ordnungsgemäße Funktion der Website erforderlich.
Statistik Cookies
Statistik-Cookies sammeln anonym Informationen. Diese Informationen helfen uns zu verstehen, wie unsere Besucher unsere Website nutzen.
Marketing Cookies
Marketing-Cookies werden von Werbekunden oder Publishern von Drittanbietern verwendet, um personalisierte Anzeigen zu schalten. Sie tun dies, indem sie Besucher über Websites hinweg verfolgen
Zurück

    Bestimmung der spezifischen Oberfläche hochdisperser Siliciumdioxide mittels Nahinfrarot-Spektroskopie (NIRS)

    Determination of the Specific surface area of Colloidal Silicon Dioxide with Near-infrared Spectroscopy

    The determination of the specific surface area of colloidal silicon dioxide uses the very elaborate method of gas adsorption of Brunauer, Emmet and Teller (BET). This paper shows that after the initial necessary calibration this method can be replaced by the very simple and eloquent method of near-infrared spectrocopy. This method can be used with slightly less precision, when accepted, and be sufficient for example in the qualiity control of incoming pharmaceutical raw materials in manufacturing facility.

    Key words Hochdisperses Siliciumdioxid · Modellerstellung · Nahinfrarot-Spektroskopie · Spezifische Oberfläche

     

     

     




    © ECV · Editio Cantor Verlag (Germany) 2002

     

    pharmind 2002, Nr. 4, Seite 398