Prüfung von chemischen Oberflächenrückständen
Ein neuer Ansatz nach VDI 2083 Blatt 23
Regularien
Key Wordsfilmische Kontaminationen | technische Sauberkeit | nicht flüchtige Rückstände | Quarzkristall-Mikrowaage
Zusammenfassung
Dieser Beitrag befasst sich mit der Fragestellung, wie die chemische Reinheit von Oberflächen im Rahmen der Qualitätssicherung einfach, zuverlässig, aber auch hochempfindlich geprüft werden kann. In vielen Reinraumanwendungen werden Prozesse durchgeführt, die nicht nur bzgl. Partikelverunreinigungen sensibel sind, sondern auch auf filmisch/chemische Rückstände sehr empfindlich reagieren, etwa das Kleben und Beschichten. Für diese Aufgabenstellung insbesondere zur Prüfung von Sauberkeitsgrenzwerten firmenintern oder im Kunde-Lieferanten-Verhältnis wird ein neues Messverfahren vorgestellt. Funktionsweise und Durchführung dieser Prüfung, die Inhalt einer ebenfalls neuen VDI-Richtlinie ist, werden beschrieben sowie die Eigenschaften und Vorteile zum Stand der Technik angeführt.
Korrespondenz:
Dr.-Ing. Markus Rochowicz, Fraunhofer Institut für Produktionstechnik und Automatisierung, Nobelstraße 12, 70569 Stuttgart; E-Mail: Markus.Rochowicz@ipa.fraunhofer.de
 | Dr.-Ing. Markus Rochowicz Dr.-Ing. Markus Rochowicz ist als Gruppenleiter Reinheitstechnik seit 2008 in der Abteilung Reinst- und Mikroproduktion des Fraunhofer IPA in Stuttgart mit seinem Team für Reinheitsfragestellungen in der Produktion für ein breites Kundenbranchenspektrum zuständig. Vorher war er seit 1996 als wissenschaftlicher Mitarbeiter |
Sie haben TechnoPharm | Tech4Pharma / cleanroom & processes für sich entdeckt und möchten auf alle Beiträge und Ausgaben Zugriff haben?
Dann registrieren Sie sich noch heute kostenlos und genießen Sie sofort alle Möglichkeiten – recherchieren, lesen, downloaden.
